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1篇

出版年度

1989

1篇

作者

	Gwon, O-Jun	1篇
	Jang, Sang-Hwan	1篇
	Yun, Seon-Jin	1篇

来源期刊

ETRI Journal

1篇

学科主题

	应用物理学	1篇
	电信	1篇

语种

英文

1篇

国别/地区

韩国

1篇

检索条件:"( ( 高级检索(( ((AU:(("Jang, Sang-Hwan")))) )) ) )"

共 1 条记录

排序：全选导出：

1.$C_2F_6$/$CHF_3$ 반응성이온 건식식각 공정시 실리콘 표면에 생성된 잔류막과 표면구조의 연구

作　　者：Yun, Seon-Jin ;Jang, Sang-Hwan ;Gwon, O-Jun

出　　处：ETRI Journal. 1989 ;11(1):89-96.

出版社：Electronics and Telecommunications Research Institute

文章 ID：114422160

文章详细

1

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E-mail：[email protected]

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