文章基本信息

标题：光酸・塩基発生剤の開発とその新規フォトポリマー設計における活用
本地全文：下载
作者：角岡正弘 ; 陶山寛志 ; 岡村晴之等
期刊名称：日本写真学会誌
印刷版ISSN：0369-5662
电子版ISSN：1884-5932
出版年度：2003
卷号：66
期号：4
页码：355-366
出版社：The Society of Photographic Science and Technolgy of Japan
摘要：光酸・塩基発生剤とその新規フォトポリマー設計における活用について, 我々の研究室での成果を中心に最近の動向を述べる. 光酸発生剤については1) 光カチオン重合における増感剤, 2) F₂用フォトレジストの設計における光酸発生剤の利用, 3) 熱的分解ユニットをもつ光架橋型フォトポリマーについて, 光塩基発生剤については1) 光塩基発生剤の現状, 2) 三級アミンを生成する光塩基発生剤とその光架橋システム設計における利用および3) 高分子型光塩基発生剤とその応用について述べる.